従来、膜ろ過装置にて対応していましたクリプトスポリジウム等に対する処理方式が「紫外線照射システム」にて大幅なコストダウンが可能となりました。有害な副生成物を作らない装置としても注目されています。
紫外線がクリプトスポリジウム、ジアルジアなどの耐塩素性病原生物のDNAを破壊し不活性化効果を発揮 します。
膜ろ過装置と比較しても、イニシャルコスト・ランニングコスト共に安価でトータルコストを大幅に削減 します。
紫外線照射システムは、毒性もなく、有害な副生成物が生成されないクリーンな装置です。 弊社装置では、超音波洗浄装置により装置内部を清潔に保っていることも大きな特徴の一つです。
標準機器構成
操作盤 | 電源回路・UVモニター・超音波発信器などを収納 |
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照射槽 | UVランプ・ランプ保護管・超音波振動子・UVセンサーにて構成 |
超音波洗浄装置 | 従来のスクレバー方式によるランプ保護管の洗浄方式と比較して、保護管を破損するなどの弊害をなくし、安定した洗浄能力を発揮します。 |
UVモニター システム | UVモニターは、24時間紫外線を監視し、 mW/c㎡にて表示します。従来の0%〜100%表示と比較し照度管理が飛躍的に向上しました。 |